国家/地区 Usa(2)
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机构 RENSSELAER POLYTECH INST(2)
作者 BASU S(2)

ACS NANO

SURESH S, WU ZP, BARTOLUCCI SF, BASU S, MUKHERJEE R, GUPTA T, HUNDEKAR P, SHI YF, LU TM, KORATKAR N