国家/地区 Taiwan（2）
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机构 NATL CHENG KUNG UNIV（2）
作者 CHANG CS（2）

Effects of fluorination of carbon film and annealing conditions on side leakage current and current breakdown time of SiO2/graphene/Cu/Ti/SiO2/Si specimens

VACUUM

CHANG CS, CHENG HC, HAN CF, LAI CS, LIN JF

Graphene On Au-Coated SiOx Substrate: Its Core-Level Photoelectron Microspectroscopy Study

APPLIED PHYSICS EXPRESS

CHEN JW, WANG CL, SHIU HW, LIN CY, CHANG CS, CHIEN FSS, CHEN CH, CHEN YC, WU CL