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出版时间 2018（2）
机构
作者 KOVALSKA E（2）

NLL-Assisted Multilayer Graphene Patterning

ACS OMEGA

KOVALSKA E, PAVLOV I, DEMINSKYI P, BALDYCHEVA A, ILDAY FO, KOCABAS C

Graphene as plasma-compatible blocking layer material for area-selective atomic layer deposition: A feasibility study for III-nitrides

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE TECHNOLOGY A

DEMINSKYI P, HAIDER A, KOVALSKA E, BIYIKLI N