国家/地区 | Germany(6) |
关键词 | GRAPHENE(4) CONTACT RESISTANCE(2) |
出版物 | |
出版时间 | 2020(6) |
机构 | RHEIN WESTFA.(4) |
作者 | LEMME MC(6) |
ACS NANO
DE FAZIO D, UZLU B, TORRE I, MONASTERIOBALCELLS C, GUPTA S, KHODKOV T, BI Y, WANG ZX, OTTO M, LEMME MC, GOOSSENS S, NEUMAIER D, KOPPENS FHL
ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS
GAHOI A, KATARIA S, DRIUSSI F, VENICA S, PANDEY H, ESSENI D, SELMI L, LEMME MC
ACS APPLIED ELECTRONIC MATERIALS
WITTMANN S, AUMER F, WITTMANN D, PINDL S, WAGNER S, GAHOI A, REATO E, BELETE M, KATARIA S, LEMME MC
ADVANCED OPTICAL MATERIALS
RIAZIMEHR S, BELETE M, KATARIA S, ENGSTROM O, LEMME MC
MICROSYSTEMS NANOENGINEERING
FAN XG, SMITH AD, FORSBERG F, WAGNER S, SCHRODER S, AKBARI SSA, FISCHER AC, VILLANUEVA LG, OSTLING M, LEMME MC, NIKLAUS F
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BELETE M, ENGSTROM O, VAZIRI S, LIPPERT G, LUKOSIUS M, KATARIA S, LEMME MC