国家/地区 | |
关键词 | CONTACT RESISTANCE(2) |
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作者 | NEUMAIER D(2) |
IEEE JOURNAL OF THE ELECTRON DEVICES SOCIETY
ASAD M, BONMANN M, YANG XX, VOROBIEV A, JEPPSON K, BANSZERUS L, OTTO M, STAMPFER C, NEUMAIER D, STAKE J
2D MATERIALS
CHAVES FA, JIMENEZ D, SAGADE AA, KIM W, RIIKONEN J, LIPSANEN H, NEUMAIER D