| 国家/地区 |
Germany（9）
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| 关键词 | GRAPHENE（3） PHOTOELECTRON SPECT.（2） |
| 出版物 | CHEMSUSCHEM（2） |
| 出版时间 | 2012（2） |
| 机构 | MAX PLANCK G.（3） MAX PLANCK I.（2） |
| 作者 |
SCHLOGL R（9）
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ACS APPLIED MATERIALS INTERFACES
FALLING LJ, MOM RV, DIAZ LES, NAKHAIE S, STOTZ E, IVANOV D, HAVECKER M, LUNKENBEIN T, KNOPGERICKE A, SCHLOGL R, VELASCOVELEZ JJ
SURFACE SCIENCE
VELASCOVELEZ JJ, JONES TE, STREIBEL V, HAVECKER M, CHUANG CH, FREVEL L, PLODINEC M, CENTENO A, ZURUTUZA A, WANG R, ARRIGO R, MOM R, HOFMANN S, SCHLOGL R, KNOPGERICKE A
PHYSICAL CHEMISTRY CHEMICAL PHYSICS
BLUME R, KIDAMBI PR, BAYER BC, WEATHERUP RS, WANG ZJ, WEINBERG G, WILLINGER MG, GREINER M, HOFMANN S, KNOPGERICKE A, SCHLOGL R
CHEMSUSCHEM
LI XH, CHEN JS, WANG XC, SCHUSTER ME, SCHLOGL R, ANTONIETTI M
JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY
CHEN CM, ZHANG Q, ZHAO XC, ZHANG BS, KONG QQ, YANG MG, YANG QH, WANG MZ, YANG YG, SCHLOGL R, SU DS
CHEMSUSCHEM
LIU X, HU YS, MULLER JO, SCHLOGL R, MAIER J, SU DS
NANO LETTERS
ZHU ZP, SU DS, WEINBERG G, SCHLOGL R
ELECTROCHEMISTRY COMMUNICATIONS
WANG J, TESCHNER D, HUANG X, YAO YY, WILLINGER M, SHAO LD, SCHLOGL R
ANGEWANDTE CHEMIEINTERNATIONAL EDITION
VELASCOVELEZ JJ, PFEIFER V, HAVECKER M, WEATHERUP RS, ARRIGO R, CHUANG CH, STOTZ E, WEINBERG G, SALMERON M, SCHLOGL R, KNOPGERICKE A