国家/地区 China(3)
关键词 SULFATE RADICAL(3)
出版物
出版时间 2018(2)
机构 HENAN NORMAL.(2)
作者 SUN JH(3)

JOURNAL OF COLLOID INTERFACE SCIENCE

PI YQ, MA LH, ZHAO P, CAO YD, GAO HQ, WANG CF, LI QL, DONG SY, SUN JH

JOURNAL OF ALLOYS COMPOUNDS

PI YQ, ZHAO P, MA LJ, CAO YD, GAO HQ, DONG SY, SUN JH

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING

LI YK, CHAO C, ZHANG D, CHEN QS, SUN JH