国家/地区 Singapore(2)
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机构 NANYANG TECH.(2)
作者 WU XY(2)

JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C

YU GN, LIU XF, XING GC, CHEN S, NG CF, WU XY, YEOW EKL, LEW WS, SUM TC

RSC ADVANCES

LIU JL, YANG HP, ZHEN SG, POH CK, CHAURASIA A, LUO JS, WU XY, YEOW EKL, SAHOO NG, LIN JY, SHEN ZX