国家/地区 China（2）
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机构 KUNMING UNIV（2）
作者 ZHANG LC（2）

Effects of Pretreatment on the Electronic Properties of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Hetero-Epitaxial Graphene Devices

CHINESE PHYSICS LETTERS

ZHANG LC, SHI ZW, YANG R, HUANG J

Competitive Growth and Etching of Epitaxial Graphene

JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C

ZHANG LC, NI M, LIU DH, SHI DX, ZHANG GY