国家/地区 China（2）
关键词
出版物 AIP ADVANCES（2）
出版时间
机构
作者 ZHANG XZ（2）

Selective etching in graphene-MoS2 heterostructures for fabricating graphene-contacted MoS2 transistors

AIP ADVANCES

SUN ZL, PENG G, BAI ZQ, ZHANG XZ, WEI YH, DENG CY, ZHANG Y, ZHU MJ, QIN SQ, LI Z, LUO W

In-plane reflection phase engineering of graphene plasmons realized by electronic boundary design at the nanoscale

AIP ADVANCES

JIANG XJ, LUO WW, ZHANG N, FAN J, WANG L, XIANG YX, LU Y, MA ZH, REN MX, ZHANG XZ, CAI W, XU JJ