国家/地区 China（2）
关键词 ATOMIC LAYER DEPOSITION（2）
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作者 CHENG XH（2）

Direct growth of high-quality Al2O3 dielectric on graphene layers by low-temperature H2O-based ALD

JOURNAL OF PHYSICS DAPPLIED PHYSICS

ZHANG YW, QIU ZJ, CHENG XH, XIE H, WANG HM, XIE XM, YU YH, LIU R

Studies on H2O-based Atomic Layer Deposition of Al2O3 Dielectric on Pristine Graphene

JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS

ZHANG YW, WAN L, CHENG XH, WANG ZJ, XIA C, CAO D, JIA TT, YU YH