| 国家/地区 | |
| 关键词 |
RESISTANCE STANDARD（2）
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| 出版物 | |
| 出版时间 |
2015（2）
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| 机构 | |
| 作者 |
IEEE TRANSACTIONS ON INSTRUMENTATION MEASUREMENT
FUKUYAMA Y, ELMQUIST RE, HUANG LI, YANG YF, LIU FH, KANEKO NH
SEMICONDUCTOR SCIENCE TECHNOLOGY
IAGALLO A, TANABE S, RODDARO S, TAKAMURA M, SEKINE Y, HIBINO H, MISEIKIS V, COLETTI C, PIAZZA V, BELTRAM F, HEUN S