国家/地区 China（2）
关键词 SCHOTTKY BARRIER（2）
出版物 ACS APPLIED ELECTRONIC MATERIALS（2）
出版时间 2023（2）
机构
作者 DUAN R（2） GUO HT（2） LI PK（2） QI WH（2）
RU GL（2）

Excellent Optoelectronic Properties and Low Contact Resistance of Graphene/MoS2 Heterostructure Optoelectronic Devices: First- Principles Calculation and Experimental Verification

ACS APPLIED ELECTRONIC MATERIALS

LI PK, GUO HT, DUAN R, RU GL, QI WH

Excellent Optoelectronic Properties and Low Contact Resistance of Graphene/MoS2 Heterostructure Optoelectronic Devices: First- Principles Calculation and Experimental Verification

ACS APPLIED ELECTRONIC MATERIALS

LI PK, GUO HT, DUAN R, RU GL, QI WH