国家/地区 Hungary（2）
关键词
出版物 NPJ 2D MATERIALS APPLICATIONS（2）
出版时间
机构
作者 KUN P（2）

Robust quantum point contact operation of narrow graphene constrictions patterned by AFM cleavage lithography

NPJ 2D MATERIALS APPLICATIONS

KUN P, FULOP B, DOBRIK G, NEMESINCZE P, LUKACS IE, CSONKA S, HWANG C, TAPASZTO L

Large intravalley scattering due to pseudo-magnetic fields in crumpled graphene

NPJ 2D MATERIALS APPLICATIONS

KUN P, KUKUCSKA G, DOBRIK G, KOLTAI J, KURTI J, BIRO LP, TAPASZTO L, NEMESINCZE P