国家/地区 Japan（2）
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机构 UNIV TOKYO（2）
作者 AKADA K（2）

High degree reduction and restoration of graphene oxide on SiO2 at low temperature via remote Cu-assisted plasma treatment

NANOTECHNOLOGY

OBATA S, SATO M, AKADA K, SAIKI K

Control of work function of graphene by plasma assisted nitrogen doping

APPLIED PHYSICS LETTERS

AKADA K, TERASAWA TO, IMAMURA G, OBATA S, SAIKI K