国家/地区 Korea（2）
关键词
出版物 ACS APPLIED NANO MATERIALS（2）
出版时间
机构
作者 SHIN HJ（2）

Graphene-Based Etch Resist for Semiconductor Device Fabrication

ACS APPLIED NANO MATERIALS

KIM SW, SEOL M, CHO Y, SHIN KW, LEE D, JEONG SJ, LEE H, CHUNG JG, KIM HM, KIM KB, PARK S, SHIN HJ

Graphene Capping of Cu Back-End-of-Line Interconnects Reduces Resistance and Improves Electromigration Lifetime

ACS APPLIED NANO MATERIALS

SHIN KW, CHO YC, NAM SG, JUNG AL, LEE EK, LEE CS, LEE MH, SHIN HJ, BYUN KE