国家/地区 China（2）
关键词 CONTACT RESISTANCE（2） GRAPHENE（2）
出版物 NANOTECHNOLOGY（2）
出版时间 2021（2）
机构
作者 HUANG XN（2）

Reducing metal/graphene contact resistance via N, N-dimethylacetamide-assisted clean fabrication process

NANOTECHNOLOGY

ZHU CY, PENG SA, ZHANG XR, YAO Y, HUANG XN, YAN YP, ZHANG DY, SHI JY, JIN Z

Stable p-type chemical doping of graphene with reduced contact resistance by single-layer perfluorinated polymeric sulfonic acid

NANOTECHNOLOGY

ZHANG XR, YAO Y, PENG SA, ZHU CY, HUANG XN, YAN YP, ZHANG DY, SHI JY, JIN Z