国家/地区 Japan(3)
关键词 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION(4)
出版物 ANGEWANDTE CHEMIEIN.(3)
出版时间 2014(2)
机构 TOHOKU UNIV(4)
作者 FUJITA T(4)

ANGEWANDTE CHEMIEINTERNATIONAL EDITION

CHEN LH, HAN JH, ITO Y, FUJITA T, HUANG G, HU KL, HIRATA A, WATANABE K, CHEN MW

ADVANCED MATERIALS

ITO Y, QIU HJ, FUJITA T, TANABE Y, TANIGAKI K, CHEN MW

ANGEWANDTE CHEMIEINTERNATIONAL EDITION

ITO Y, TANABE Y, QIU HJ, SUGAWARA K, HEGURI S, TU NH, HUYNH KK, FUJITA T, TAKAHASHI T, TANIGAKI K, CHEN MW

ANGEWANDTE CHEMIEINTERNATIONAL EDITION

ITO Y, CONG WT, FUJITA T, TANG Z, CHEN MW