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CHEMICAL VAPOR DEPOSITION（2）
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UNIV CAMBRIDGE（2）
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| 作者 |
SCHLOEGL R（2）
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ACS NANO
DLUBAK B, MARTIN MB, WEATHERUP RS, YANG H, DERANLOT C, BLUME R, SCHLOEGL R, FERT A, ANANE A, HOFMANN S, SENEOR P, ROBERTSON J
NANO LETTERS
WEATHERUP RS, SHAHAN AJ, WANG ZJ, MINGARD K, POLLARD AJ, WILLINGER MG, SCHLOEGL R, VOORHEES PW, HOFMANN S