国家/地区 Usa（2）
关键词 ATOMIC LAYER DEPOSITION（2）
出版物 APPLIED PHYSICS LETTERS（2）
出版时间
机构
作者 COLOMBO L（2）

Scaling of Al2O3 dielectric for graphene field-effect transistors

APPLIED PHYSICS LETTERS

FALLAHAZAD B, LEE K, LIAN G, KIM S, CORBET CM, FERRER DA, COLOMBO L, TUTUC E

Characteristics of high-k Al2O3 dielectric using ozone-based atomic layer deposition for dual-gated graphene devices

APPLIED PHYSICS LETTERS

LEE B, MORDI G, KIM MJ, CHABAL YJ, VOGEL EM, WALLACE RM, CHO KJ, COLOMBO L, KIM J