国家/地区 | 韩国(2) 世界知识产权组织(2) |
IPC部 | C(2) D(2) |
IPC大类 | C01(2) D01(2) |
IPC小类 |
C01B(2)![]() |
IPC |
C01B032/182(2)![]() |
发明人 |
SHIN M K(2)![]() |
公开年 | 2017(2) |
申请年 |
2017(2)![]() |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R