国家/地区 韩国(2) 世界知识产权组织(2)
IPC部 C(3)
IPC大类 D01(3) C01(2)
IPC小类 D01D(3)
IPC D01D005/06(3)
发明人 CHO K R(2) CHO Y J(2) KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2)
公开年 2017(2)
申请年 2017(3)
专利权人 AICT(3) PURITECH CO .(3)