| 国家/地区 |
美国(2)
|
| IPC部 | H(2) |
| IPC大类 | H01(2) |
| IPC小类 | H01B(2) |
| IPC | H01B001/04(2) |
| 发明人 |
CHOI S(2)
KIM S(2)
LEE K(2)
RYU S(2) SHIN M(2) SON B(2) |
| 公开年 | |
| 申请年 | 2013(2) |
| 专利权人 |
CHEORWON PLASMA RES INST(2)
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KIM S, SON B, SHIN M, RYU S, CHOI S, LEE K
KIM S, CHOI S Y, SHIN M S, LEE K H, SON B G, RYU S H, SON B, SHIN M, RYU S, CHOI S, LEE K
