国家/地区 | 世界知识产权组织(6) 中国(3) 韩国(3) 美国(2) |
IPC部 |
C(6)![]() |
IPC大类 |
C01(6)
D01(4)
C08(2)
|
IPC小类 |
C01B(6)![]() |
IPC |
C01B032/182(6)![]() |
发明人 |
CHO K R(2)
CHO Y J(2)
KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2) |
公开年 | 2017(5) |
申请年 |
2017(6)![]() |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
WU Y, ZHANG Z, QING Y, WU Q, LUO S, TIAN C, LI L
GAO C, LI Z, ZHANG C, CHANG D, CHEN C, GAO W, GUO Y, HAN Y