国家/地区 | 韩国(3) 世界知识产权组织(3) |
IPC部 |
C(3)![]() |
IPC大类 |
C01(3)![]() |
IPC小类 |
C01B(3)![]() |
IPC |
D01D005/06(3)![]() |
发明人 |
SHIN M K(3)![]() |
公开年 | 2017(2) |
申请年 | 2017(2) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
KIM S J, SHIN M K, KIM S H, JEONG K S, KYOON S M, HYEONG K S