国家/地区 世界知识产权组织(6) 中国(3) 韩国(3) 美国(2)
IPC部 C(6)
IPC大类 C01(6) D01(4) C08(2)
IPC小类 C01B(6)
IPC C01B032/182(6)
发明人 CHO K R(2) CHO Y J(2) KIM H J(2)
PARK S Y(2) SHIN M K(2) YEO C S(2)
公开年 2017(5)
申请年 2017(6)
专利权人 AICT(2) PURITECH CO .(2)