国家/地区 | 韩国(4) 世界知识产权组织(4) 欧洲专利局(EPO)(2) 美国(2) |
IPC部 |
C(4)![]() |
IPC大类 |
C01(4)![]() |
IPC小类 |
C01B(4)![]() |
IPC |
D01D005/06(4)![]() |
发明人 |
SHIN M K(4)![]() |
公开年 | 2012(2) 2017(2) |
申请年 | 2012(2) 2017(2) |
专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) UNIV HANYANG.(2) |
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
PARK S Y, SHIN M K, KIM H J, YEO C S, CHO Y J, CHO K R
KIM S J, SHIN M K, KIM S H, JEONG K S, KYOON S M, HYEONG K S
KIM S J, SHIN M K, KIM S H, JEONG K S, KYOON S M, HYEONG K S