| 国家/地区 | 美国(2) |
| IPC部 |
C(2)
D(2)
H(2)
|
| IPC大类 |
C09(2)
D01(2)
H01(2)
|
| IPC小类 |
C09D(2)
|
| IPC |
C09D005/44(2)
D01D005/00(2)
D01D005/06(2)
D01F009/12(2) H01G011/36(2) H01G011/40(2) H01G011/86(2) H01M004/04(2) H01M004/583(2) |
| 发明人 |
SHIN M(2)
|
| 公开年 | |
| 申请年 | |
| 专利权人 | AICT(2) PURITECH CO .(2) |
PARK S, SHIN M, KIM H, YEO C, CHO Y, CHO K
