国家/地区 美国(6)
IPC部 C(6)
IPC大类 C09(6) D01(6) C01(4)
B01(3) H01(3) C08(2)
IPC小类 C09D(6)
IPC D01F009/12(6)
发明人 CHO K(2) CHO Y(2) ENDO M(2)
KIM H(2) PARK S(2) SHIN M(2)
YEO C(2)
公开年 2021(2)
申请年
专利权人 AICT(2) ENDO M(2) PURITECH CO .(2)