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  • 文献标题:   Enabling Quality Interfaces with Mask-Free Approach to Selective Growth of MoS2/Graphene Stacked Structures
  • 文献类型:   Article
  • 作　　者:   DONG R, MOORE L, OCOLA LE, KULJANISHVILI I
  • 作者关键词:   2d atomic crystal, direct write patterning, maskfree fabrication, mos2, graphene stacked structure, residuefree interface
  • 出版物名称:   ADVANCED MATERIALS INTERFACES
  • ISSN:   2196-7350
  • 通讯作者地址:   St Louis Univ
  • 被引频次:   5
  • DOI:   10.1002/admi.201600098
  • 出版年:   2016

▎ 摘　　要