• 文献标题:   Influence of plasma treatment on SiO2/Si and Si3N4/Si substrates for large-scale transfer of graphene (vol 11, 13111, 2021)
  • 文献类型:   Correction
  • 作  者:   LUKOSE R, LISKER M, AKHTAR F, FRASCHKE M, GRABOLLA T, MAI A, LUKOSIUS M
  • 作者关键词:  
  • 出版物名称:   SCIENTIFIC REPORTS
  • ISSN:   2045-2322
  • 通讯作者地址:  
  • 被引频次:   0
  • DOI:   10.1038/s41598-021-96605-z
  • 出版年:   2021

▎ 摘  要