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  • 文献标题:   Processing of graphene on 300mm Si wafers in a state-of-the-art CMOS fabrication facility
  • 文献类型:   Article
  • 作　　者:   KAUSHIK V, AGBODO N, CHUNG H, HATZISTERGOS M, JI B, KHARE R, LAURSEN T, LOVELL D, MESFIN A, MURRAY T, NOVAK S, STAMPER H, STEINKE D, VIVEKANAND S, VO T, PASSARO M, LIEHR M
  • 作者关键词:  
  • 出版物名称:   SOLID STATE TECHNOLOGY
  • ISSN:   0038-111X
  • 通讯作者地址:   SUNY Albany
  • 被引频次:   0
  • DOI:  
  • 出版年:   2015

▎ 摘　　要