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  • 文献标题:   Extremely Low Contact Resistance on Graphene through n-Type Doping and Edge Contact Design
  • 文献类型:   Article
  • 作　　者:   PARK HY, JUNG WS, KANG DH, JEON J, YOO G, PARK Y, LEE J, JANG YH, LEE J, PARK S, YU HY, SHIN B, LEE S, PARK JH
  • 作者关键词:   contact resistance, doping, edge contact, graphene, optoelectronic device
  • 出版物名称:   ADVANCED MATERIALS
  • ISSN:   0935-9648 EI 1521-4095
  • 通讯作者地址:   Sungkyunkwan Univ
  • 被引频次:   32
  • DOI:   10.1002/adma.201503715
  • 出版年:   2016

▎ 摘　　要