国家/地区 Korea(2)
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机构 SAMSUNG ADV INST TECHNOL(2)
作者 CHOI D(2)

JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY

SHIN HJ, CHOI WM, CHOI D, HAN GH, YOON SM, PARK HK, KIM SW, JIN YW, LEE SY, KIM JM, CHOI JY, LEE YH