| 国家/地区 | England（4） |
| 关键词 |
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION（6）
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| 出版物 | ACS NANO（3） |
| 出版时间 | 2012（3） |
| 机构 | UNIV CAMBRID.（5） |
| 作者 |
HOFMANN S（6）
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ACS NANO
BURTON OJ, MASSABUAU FCP, VEIGANGRADULESCU VP, BRENNAN B, POLLARD AJ, HOFMANN S
ACS NANO
DLUBAK B, MARTIN MB, WEATHERUP RS, YANG H, DERANLOT C, BLUME R, SCHLOEGL R, FERT A, ANANE A, HOFMANN S, SENEOR P, ROBERTSON J
ACS NANO
WEATHERUP RS, DLUBAK B, HOFMANN S
CHEMPHYSCHEM
WEATHERUP RS, BAYER BC, BLUME R, BAEHTZ C, KIDAMBI PR, FOUQUET M, WIRTH CT, SCHLOGL R, HOFMANN S
NANO LETTERS
WEATHERUP RS, SHAHAN AJ, WANG ZJ, MINGARD K, POLLARD AJ, WILLINGER MG, SCHLOEGL R, VOORHEES PW, HOFMANN S
APPLIED SURFACE SCIENCE
CAMILLI L, GALBIATI M, DI GASPARE L, DE SETA M, PIS I, BONDINO F, CAPORALE A, VEIGANGRADULESCU VP, BABENKO V, HOFMANN S, SODO A, GUNNELLA R, PERSICHETTI L