国家/地区
关键词
出版物 CHEMICAL ENGINEERING JOURNAL（2）
出版时间 2022（2）
机构
作者 HU L（2）

Residue-free photolithographic patterning of graphene

CHEMICAL ENGINEERING JOURNAL

CHOI A, HOANG AT, VAN TTN, SHONG B, HU L, THAI KY, AHN JH

Highly conductive EGaIn/silk fibroin ink for graphene 3D array structure micro-supercapacitors

CHEMICAL ENGINEERING JOURNAL

ZHANG YR, CHENG ZL, NI CK, WANG ZX, YU YS, ZHAI XX, XU SL, ZHAO ZW, HU L, HU Y