国家/地区 Korea（2）
关键词 CONTACT RESISTANCE（2）
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机构
作者 LEE S（2）

Extremely Low Contact Resistance on Graphene through n-Type Doping and Edge Contact Design

ADVANCED MATERIALS

PARK HY, JUNG WS, KANG DH, JEON J, YOO G, PARK Y, LEE J, JANG YH, LEE J, PARK S, YU HY, SHIN B, LEE S, PARK JH

Contact Resistivity in Edge-Contacted Graphene Field Effect Transistors

ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS

LEE S, CHOI H, MOON I, SHIN H, WATANABE K, TANIGUCHI T, YOO WJ