国家/地区 Taiwan(2)
关键词 LOW VACUUM ANNEALING(3)
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机构
作者 NGUYEN DD(3) HOFMANN M(2) HSIEH YP(2) HSU CC(2)
KAN HC(2)

ACS APPLIED NANO MATERIALS

TRAN VV, NGUYEN DD, NGUYEN AT, HOFMANN M, HSIEH YP, KAN HC, HSU CC

ACS APPLIED MATERIALS INTERFACES

NGUYEN DD, TIWARI RN, MATSUOKA Y, HASHIMOTO G, ROKUTA E, CHEN YZ, CHUEH YL, YOSHIMURA M