国家/地区 Korea（2）
关键词 PMMA（2）
出版物
出版时间
机构 SUNGKYUNKWAN UNIV（2）
作者

Graphene Treatment Using a Very Low Energy Ar+ Ion Beam for Residue Removal

JOURNAL OF NANOSCIENCE NANOTECHNOLOGY

MIN KS, KIM KS, KIM KN, MISHRA A, YEOM GY

A Facile Route To Recover Intrinsic Graphene over Large Scale

ACS NANO

SHIN DW, LEE HM, YU SM, LIM KS, JUNG JH, KIM MK, KIM SW, HAN JH, RUOFF RS, YOO JB