国家/地区 Brazil（2）
关键词 XPS（2）
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机构 UNIV FED RIO GRANDE DO SUL（2）
作者 RADTKE C（2）

Mitigating graphene etching on SiO2 during fluorination by XeF2

MATERIALS LETTERS

COPETTI G, NUNES EH, SOARES GV, RADTKE C

Chemical and morphological modifications of single layer graphene submitted to annealing in water vapor

APPLIED SURFACE SCIENCE

ROLIM GK, CORREA SA, GALVES LA, LOPES JMJ, SOARES GV, RADTKE C