国家/地区 England（4）
关键词 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION（4）
出版物 ACS NANO（3）
出版时间 2012（3）
机构 UNIV CAMBRID.（4）
作者 HOFMANN S（4）

Integrated Wafer Scale Growth of Single Crystal Metal Films and High Quality Graphene

ACS NANO

BURTON OJ, MASSABUAU FCP, VEIGANGRADULESCU VP, BRENNAN B, POLLARD AJ, HOFMANN S

Graphene-Passivated Nickel as an Oxidation-Resistant Electrode for Spintronics

ACS NANO

DLUBAK B, MARTIN MB, WEATHERUP RS, YANG H, DERANLOT C, BLUME R, SCHLOEGL R, FERT A, ANANE A, HOFMANN S, SENEOR P, ROBERTSON J

Kinetic Control of Catalytic CVD for High-Quality Graphene at Low Temperatures

ACS NANO

WEATHERUP RS, DLUBAK B, HOFMANN S

On the Mechanisms of Ni-Catalysed Graphene Chemical Vapour Deposition

CHEMPHYSCHEM

WEATHERUP RS, BAYER BC, BLUME R, BAEHTZ C, KIDAMBI PR, FOUQUET M, WIRTH CT, SCHLOGL R, HOFMANN S