国家/地区 Usa（3）
关键词 ATOMIC LAYER DEPOSI.（2）
出版物
出版时间 2012（2）
机构 UNIV TEXAS D.（3）
作者 FLORESCA C（3）

Scaling of HfO2 dielectric on CVD graphene

APPLIED SURFACE SCIENCE

MCDONNELL S, AZCATL A, MORDI G, FLORESCA C, PIRKLE A, COLOMBO L, KIM J, KIM M, WALLACE RM

Low-kappa organic layer as a top gate dielectric for graphene field effect transistors

APPLIED PHYSICS LETTERS

MORDI G, JANDHYALA S, FLORESCA C, MCDONNELL S, KIM MJ, WALLACE RM, COLOMBO L, KIM J

Atomic Layer Deposition of Dielectrics on Graphene Using Reversibly Physisorbed Ozone

ACS NANO

JANDHYALA S, MORDI G, LEE B, LEE G, FLORESCA C, CHA PR, AHN J, WALLACE RM, CHABAL YJ, KIM MJ, COLOMBO L, CHO K, KIM J