国家/地区 Brazil（2）
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机构 UNIV FED RIO GRANDE DO SUL（2）
作者 COPETTI G（2）

Mitigating graphene etching on SiO2 during fluorination by XeF2

MATERIALS LETTERS

COPETTI G, NUNES EH, SOARES GV, RADTKE C

Reversibility of Graphene Photochlorination

JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C

COPETTI G, NUNES EH, ROHM GK, SOARES GV, CORREA SA, WEIBEL DE, RADTKE C