国家/地区 美国（2）
IPC部 B（2） C（2） H（2）
IPC大类 B05（2）
IPC小类 B05D（2）
IPC C01B031/04（2）
发明人 SJONG A（2）
公开年 2015（2）
申请年 2013（2）
专利权人 EMPIRE TECHN.（2）

Etching method of graphene, involves etching exposed portions of graphene to form etched graphene structure, after applying resist to surface of graphene opposite to patterned substrate.

ANDERSON K, SJONG A

Graphene composite for use in device i.e. sensor for sensing analytes e.g. aromatic molecule in sample, comprises photoswitchable layer, graphene layer disposed on photoswitchable layer and substrate.

ANDERSON K, SJONG A, SOONG A, ANDERSON K K