国家/地区 中国（3）
IPC部 C（3）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B031/04（2） C01B032/186（2）
发明人 HE J（3） LI C（3） LI J（3）
LIU C（3） LU J（3） LU M（3）
LU Y（3） LU Z（3） YANG T（3）
ZHANG P（3）
公开年 2015（3）
申请年 2015（3）
专利权人 UNIV YULIN NORMAL（3）

Preparation of graphene by using performing chemical gas phase deposition into furnace device, setting control gas phase dynamics parameter using computer, and controlling gas phase balance of surface of graphene growth substrate material.

HE J, LI C, LI J, LIU C, LU J, ZHANG P, YANG T, LU Z, LU M, LU Y

Multi-channel air intake device used for preparing chemical vapor phase of graphene, comprises air inlet pipe, air inlet flow controller, and gas pipeline.

HE J, LI C, LI J, LIU C, LU J, ZHANG P, YANG T, LU Z, LU M, LU Y

Furnace device used for preparing graphene vapor comprises spherical furnace body, air inlet and air outlet.

HE J, LI C, LI J, LIU C, LU J, ZHANG P, YANG T, LU Z, LU M, LU Y