国家/地区 韩国（2） 美国（2）
IPC部 H（2）
IPC大类 H01（2）
IPC小类
IPC
发明人 KIM J H（2）
公开年
申请年
专利权人 KIM J（2）

Hard mask composition used for manufacture of hard mask material film, comprises graphene copolymer and solvent.

KIM J, YU N, KIM B, YI S, CHOI J, KIM J H, YU N R, KIM B D, YI S S, CHOI J S

Electron collector structure used for electrode for lithium battery, comprises conductive thin film and graphene layer coated on surface(s) of conductive thin film.

PARK H, KWON S, PARK D, CHOI J, KIM J, KIM M, MOON J, KIM K, PARK H E, KWON S Y, PARK D H, CHOI J S, KIM J H, KIM M H, MOON J H, KIM K H