国家/地区 中国（2） 欧洲专利局（EPO）（2） 印度（2） 日本（2） 韩国（2） 台湾（2） 美国（2） 世界知识产权组织（2）
IPC部 C（2）
IPC大类 C01（2）
IPC小类 C01B（2）
IPC C01B031/02（2） C01B031/04（2）
发明人 HINTERMANN T（2）
公开年 2014（2）
申请年 2013（2） 
专利权人 BASF CHINA C.（2） BASF SE（2）

Edge-halogenation of graphene material used for electronic/optical/optoelectronic device involves reacting graphene material e.g. graphene, graphene nanoribbon, and/or graphene molecule with halogen-donor compound in presence of Lewis acid.

HINTERMANN T, MUELLEN K, FENG X, TAN Y, MULLEN K, TAN Y Z

Preparing graphene nanoribbons involves providing aromatic monomer compound, e.g. polycyclic aromatic monomer, on a solid substrate, polymerization of the aromatic monomer compound, at least partially cyclodehydrogenating.

HINTERMANN T, FASEL R, RUFFIEUX P, JINMING C, SANCHEZ VALENCIA J R, CAI J, VALENCIA J R S, SANCHEZ V J R, SANCHEZ V J, TSAI J