国家/地区 中国（5）
IPC部 H（5） C（4） B（3）
IPC大类 H01（5） C01（3） B01（2）
B82（2） H05（2）
IPC小类 H01B（4） C01B（3） B01F（2）
B82Y（2） H01M（2） H05K（2）
IPC C01B031/04（3） H01B001/24（3） B82Y040/00（2）
C01B032/15（2） C01B032/18（2） C01B032/182（2）
C01B032/184（2） C01B032/19（2） H01B001/04（2）
H01B013/00（2） H01M004/62（2）
发明人 LEE K（5）
公开年 2015（3）
申请年 2014（3） 
专利权人 LG CHEM CO L.（3） LG CHEM LTD（3）

Graphene device i.e. multi-functional device, for use in e.g. electronic apparatus e.g. transistor, has gate for facing functional layer with graphene layer, and gate insulation layer formed between graphene layer and gate.

HEO J, LEE K, PARK S, HEO J S, LEE K Y, PARK S J, LEE G, HUH J

Conductive composition used for slurry composition for forming electrode, comprises carbon-based materials chosen from carbon nanotubes, graphene and carbon black, and dispersing agent comprising polyaromatic hydrocarbon oxides.

LEE K S, SOHN K N, KWON W J, YANG S B, KIM I Y, YOO K H, LEE M J, LEE J Y, LEE K, SOHN K, KWON W, YANG S, KIM I, YOO K, LEE M, LEE J, LI M, LI J

Production of graphene involves applying physical force to liquid dispersion of dispersing agent containing polyaromatic hydrocarbon oxide, and carbon-based material comprising graphite, and forming graphite into nano graphene flakes.

SOHN K N, YOO K H, KWON W J, LEE K S, YANG S B, KIM I Y, LEE M J, LEE J Y, SOHN K, YOO K, KWON W, LEE K, YANG S, KIM I, LEE M, LEE J, LI M, LI J

Production of graphene involves forming liquid dispersion comprising dispersing agent, and carbon-based material comprising de-oxidized graphite, and continuously passing liquid dispersion through high-pressure homogenizer.

YOO K H, SOHN K N, KWON W J, LEE K S, YOO K, SOHN K, KWON W, LEE K

Polymer resin composition useful for manufacturing an insulating film for manufacture of a build-up multi-layered printed circuit board, comprises polymer resins, and graphene for linking the polymer resins with larger attraction.

LEE K S, HONG S S, LIM H H, LEE H Y, CHO J C, KYU S L, SANG S H, HYUN H L, HWA Y L, JAE C C, HONG S, LEE H, LEE K, LIN H, JO J, LIM H, CHO J