国家/地区 中国（2）
IPC部 G（2）
IPC大类
IPC小类
IPC
发明人 PENG D（2）
公开年 2017（2）
申请年 2017（2）
专利权人

Producing substrate comprises e.g. adding graphene oxide and epoxy resin into polymethacrylate, and coating organic layer precursor, composite layer precursor and ceramic layer precursor on clean silicon wafer.

PENG D, YUAN L

Preparing adsorbent material for removing radionuclide silver in reactor coolant, involves subjecting graphene oxide, ferric chloride, polyethyleneimine, and ethylene glycol as starting materials undergoes in-situ reduction method.

CAO L, WANG H, YANG W, TIAN J, HU Y, GAO Y, PENG D, XIN Z