国家/地区 中国（3） 欧洲专利局（EPO）（3） 日本（3） 美国（3） 世界知识产权组织（3） 印度（2） 韩国（2） 台湾（2）
IPC部 C（3）
IPC大类 C07（3）
IPC小类 C07C（3） C01B（2） C07B（2）
C08G（2）
IPC C07C015/20（3）
发明人 FENG X（2） MILLEN K（2） MUELLEN K（2）
MULLEN K（2）
公开年
申请年 2012（2） 
专利权人 BASF CHINA C.（2） BASF SE（2） MAX PLANCK G.（2）

New oligophenylene monomer useful in polymeric precursor for preparing graphene nanoribbons that used are in thin film semiconductor of electronic, optical, or optoelectronic device e.g. organic field effect transistor device.

MUELLEN K, FENG X, CAI J, RUFFIEUX P, FASEL R, NARITA A, TSAI J, MULLEN K, MILLEN K

New oligophenylene monomers, useful for synthesizing polymeric precursors for preparing graphene nanoribbons.

IVANOVICI S, SCHWAB M G S, FENG X, MUELLEN K, SCHWAB M G, MULLEN K, KLAUS M, SCHVAB M G, SCHWAB M, MILLEN K

Manufacture of optionally substituted aryl group-substituted polycyclic aromatic compound used for manufacturing graphene, involves reacting polycyclic aromatic compound and boron compound substituted by optionally substituted aryl group.

ITAMI K, MOCHIDA K, KAWASUMI K, SEGAWA Y, KAJINO T